发射极扩散

发射极扩散过程以多种方式进行。在这种情况下，将含磷涂层施加到表面。然后将硅片放入带式炉中，将少量磷扩散到硅表面。

载入磷涂层。生产线的趋势是尽可能实现自动化，并通过传送带将硅片移动通过生产线。花篮的装载和卸载是产量损失的主要来源。

硅片从扩散镀膜炉移至高温扩散炉。扩散涂层是透明的，因此硅片看起来与之前的视频没有明显不同。

硅片通过扩散炉需要大约一个小时。

最后，将硅片装入离心机中进行最后的漂洗和旋转干燥。

扩散过程结束后，将硅片装回花篮中进行酸蚀刻，以去除扩散玻璃。